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        DS-2000/14G型光刻机

        简要描述:DS-2000/14G型光刻机该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明

        • 产品型号:
        • 厂商性质:生产厂家
        • 更新时间:2021-03-15
        • 访  问  量:932

        详细介绍

        品牌其他品牌价格区间面议
        仪器种类微流控芯片系统应用领域医疗卫生,环保,电子
        产品名称:DS-2000/14G型光刻机
        主要技术指标:
        单次曝光面积:1.4mm×1mm
        大曝光基片:100mm ×100mm
        对准精度:±0.8μm(半自动对准)
        大胶厚:300μm(SU8胶)
        自动逐场对焦;
        分辨力:1μm;
        X、Y、Z、θ四自由度电动位移台
        X、Y平移重复定位精度:0.65μm(3σ)
        Z向运动精度:1μm
        DS-2000/14G型光刻机技术特点:
        该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明,并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统(可同时使用),拼接获得大面积图形,曝光设定采用微机控制,菜单界面友好,操作简便。

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