<menuitem id="laxfr"></menuitem>

当前位置：首页 > 产品中心 > 芯片表征设备 > 膜厚测量仪 > 薄膜测厚仪

薄膜测厚仪

简要描述：薄膜测厚仪采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点，可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。

产品型号：
厂商性质：生产厂家
更新时间：2021-07-08
访问量：978

产品咨询联系我们

产品分类

Product Category

芯片表征设备

三维形貌仪膜厚测量仪

查看全部

详细介绍

品牌	其他品牌	价格区间	面议
产地类别	进口	应用领域	医疗卫生,环保,化工,电子

产品名称：薄膜测厚仪

主要技术指标：

测量范围（VIS）：15nm—100μm

测量重复性（RMS）：0.086nm

测量精度（与椭偏仪对比）：0.25nm

测量层数：大于3层

使用光源：卤素灯；

入射角度：90°

测试材料：透明或半透明薄膜材料；

光斑尺寸：20μm—3mm（可选）

测量时间：100ms—4ms；

通信接口：USB2.0

产品特点：

采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；

可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。

薄膜测厚仪测试数据：

薄膜测厚仪设备组成：

测试主机、光纤、校正件、测量头、夹持装置、设备箱、手提电脑。

产品咨询

安徽智微科技有限公司

地址：安徽省合肥市经开区尚泽大都会A座2214

邮箱：1053185136@qq.com

传真：

快速链接

关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息：

欢迎您关注我们的微信公众号
了解更多信息

薄膜测厚仪

薄膜测厚仪测试数据：

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：